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真空物理与技术及其在电子器件中的应用  下
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工业技术

  • 电子书积分:18 积分如何计算积分?
  • 作 者:胡汉泉,王迁主编
  • 出 版 社:北京:国防工业出版社
  • 出版年份:1985
  • ISBN:15034·2702
  • 页数:634 页
图书介绍:
《真空物理与技术及其在电子器件中的应用 下》目录

目录 1

第六章 电真空器件中的气源和物质迁移 1

§6.1 气体来源 2

6.1.1 溶解 2

6.1.2 渗透 7

6.1.3 出气 12

6.1.4 蒸发 29

6.1.5 分解 39

§6.2 残余气体的化学反应 45

6.2.1 气体在热表面上的反应 46

6.2.2 残气之间的热化学平衡 51

§6.3 阴极与气氛的作用 62

6.3.1 热阴极 64

6.3.2 光电阴极 107

6.3.3 冷阴极 113

6.3.4 阴极与气氛作用的复杂性 116

§6.4 物质迁移 117

6.4.1 迁移的机理 117

6.4.2 污染的来源和影响 121

6.4.3 物质迁移的危害及复杂迁移过程 123

第七章 电真空器件的排气 129

§7.1 电真空材料的出气特性 130

7.1.1 玻璃 130

7.1.2 陶瓷 139

7.1.3 金属 144

§7.2 器件外壳与内部电极的除气 149

7.2.1 器件外壳的加热除气 149

7.2.2 器件内部电极的加热除气 156

§7.3 阴极的处理 176

7.3.1 阴极在排气时的处理过程 177

7.3.2 阴极处理规范的选择 181

§7.4 消气剂处理与器件的封离 185

7.4.1 消气剂的处理 185

7.4.2 器件的封离 190

§7.5 器件零件的净化热处理与存放 191

7.5.1 零件的净化热处理 191

7.5.2 清洁零件的存放 200

§7.6 排气系统的考虑 204

7.6.1 电真空器件排气的特点 204

7.6.2 器件的抽气过程与排气系统的选择 206

第八章 消气剂及其应用 215

§8.1 电子管对消气剂的基本要求 215

§8.2 蒸散型消气剂 220

8.2.1 钡膜的吸气特性与机理 221

8.2.2 蒸散型消气剂的发展与分类 246

8.2.3 钡消气剂的基本参量 256

8.2.4 钡消气剂的蒸散工艺 257

8.2.5 钡消气剂污染和活性检验方法 259

§8.3 非蒸散型消气剂 260

8.3.1 单质型(ⅣB族金属锆、钛等)消气剂的体吸气 261

特性及吸气机理——金属高温氧化理论 261

8.3.2 非单质型消气剂的吸气性能 272

§8.4 采用消气剂的一般原则 302

§8.5 锆铝消气剂泵 303

第九章 电真空器件内真空度的测量 316

§9.1 放电电流法 316

9.1.1 辉光放电法 316

9.1.2 磁控放电法 318

§9.2 热阴极电离计法 319

9.2.1 三极管的测量 320

9.2.2 多极管的测量 337

第十章 真空击穿 352

§10.1 强电场作用下表面的电子发射 355

§10.2 击穿之前的预击穿过程 362

10.2.1 场致发射及有关的脉冲现象 362

10.2.2 微放电现象 372

10.2.3 微粒预击穿现象 377

§10.3 击穿过程及其机理 384

10.3.1 场致发射引发的击穿机理 385

10.3.2 粒子交换理论 391

10.3.3 微粒引发的击穿过程——小块理论 392

10.4.1 影响金属电极间真空绝缘的因素 406

§10.4 影响金属电极间真空绝缘的因素及实验实例 406

10.4.2 排气技术对真空击穿的影响 415

10.4.3 电子管内真空击穿的特征 419

第十一章 表面分析 423

§11.1 绪言 423

11.1.1 表面和表面的性质 423

11.1.2 表面信息及表面分析技术的特征 428

11.1.3 表面分析技术和电真空技术 430

§11.2 表面分析技术概述 432

11.2.1 探束和被检测粒子以及分析方法的类型和命名 432

11.2.2 表面分析技术和超高真空 436

§11.3 以电子为探束的表面分析技术 438

11.3.1 射电子与固体的相互作用 438

11.3.2 俄歇电子能谱 444

11.3.3 低能电子衍射 482

§11.4 光电子能谱 503

11.4.1 光电子能谱的物理基础 504

11.4.2 光电子能谱仪的结构和测量 515

11.4.3 X射线光电子能谱及其应用 519

11.4.4 紫外光光电子能谱的应用 533

§11.5 以离子为探束的表面分析技术 537

11.5.1 概论 537

11.5.2 离子溅射剥蚀及其效应 541

11.5.3 离子激发俄歇电子能谱 548

11.5.4 离子散射能谱 551

11.5.5 二次离子质谱仪 563

§11.6 表面分析技术的组合应用 574

第十二章 蒙特卡洛法的应用 584

12.1.1 蒙特卡洛法 585

§12.1 蒙特卡洛法简介 585

12.1.2 计算圆筒传输几率 586

12.1.3 计算定积分Pr=∫?f(x)dx 593

12.1.4 基本思想和解题步骤 595

12.1.5 蒙特卡洛法的特点 597

12.1.6 伪随机数 598

§12.2 三类物理过程的蒙特卡洛模拟 599

12.2.1 模拟自由分子流 600

12.2.2 模拟电子发射 606

12.2.3 模拟气体放电 611

§12.3 模拟人字形障板中的分子流 619

12.3.1 模拟目的 619

12.3.2 计算传输几率 619

12.3.3 计算返油几率 626

12.3.4 计算结果和实验验证 628

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