当前位置:首页 > 工业技术
半导体器件的数值分析
半导体器件的数值分析

半导体器件的数值分析PDF电子书下载

工业技术

  • 电子书积分:11 积分如何计算积分?
  • 作 者:(日)仓田卫著;张光华译
  • 出 版 社:北京:电子工业出版社
  • 出版年份:1985
  • ISBN:15290·141
  • 页数:272 页
图书介绍:
《半导体器件的数值分析》目录

1.1 器件模型化的定义 1

第一章 一般概念 1

1-1 器件模型化的概念 2

1-2 晶体管中各分区的杂质分布 3

1.2 器件分析中局部法的历史 3

1.3 当代器件模型化的发展 4

第二章 器件模型化的物理基础 8

2.1 本征和非本征半导体 8

2.2 载流子迁移率 9

2.3 载流子输运方程 10

2-1 迁移率参数 10

2.4 连续性方程 载流子复合和产生 12

2-2 电离率参数 14

2.6 半导体器件的基本方程 14

2.5 泊松(Poisson)方程 14

2.7 过量载流子密度及其积分 15

3.1 p-n结的基本分析 18

第三章 数值分析引论 18

3-1 线性缓变结 19

3-2 ψ、φp和φn的分布 20

3.2 线性缓变p-n结的数值解 22

3-3 计算得到的几个迭代次数的势 25

3-1 起始的势梯度与迭代次数的关系 26

3-4 三对角矩阵的解算法 29

第四章 p-n二极管 31

4.1 基本考虑 31

4-1 p n二极管的基本结构 31

4.2 直流稳态分析 35

4-2 用于直流分析的分割点 36

4-3 数值解程序的流程图 45

4.3 瞬态计算 46

4-4 基于前步解之上的试探性势 46

4-5 瞬态分析的分割点 47

4.4 简化型的瞬态计算 50

4.5 计算举例1:基本的二极管恢复过程 54

4-6 考虑中的二极管的掺杂剖面分布 55

4-7 二极管反向恢复的基本电路 56

4-8 恢复过程中的载流子分布 60

4-9 恢复过程中的电场分布 60

4-10 直流和瞬态条件下的Qexc对V作图的轨迹 62

4-11 二极管电流的波形 63

4.6 计算举例2:功率限幅二极管特性 63

4-12 並联二极管限幅器的基本电路 64

4-13 计算的二极管电压(a)和电流(b) 65

4-14 电场的瞬时分布(a)和过量载流子的瞬时分布(b)v1=1μm,Vm=100V 67

4-15 电场的瞬时分布(a)和过量载流子的瞬时分布(b),w1=1μm,Vm=900V 69

4-16 电场的瞬时分布(a)和过量载流子的瞬时分布(b),w1=2μm,Vm=900V 71

4-18 NB=2×1014、1015、5×1015cm-3的二极管的电压波形 72

4-17 wI=0.5、1、2μm的二极管的电压波形 72

第五章 晶体管 74

5.1 基本考虑 74

5-1 晶体管的基本结构(a)和掺杂剖面分布(b) 75

5.2 基本方程和边界条件 75

5.3 矩阵-矢量方程 77

5-2 基极电流的概略图:(a)真实的情形(b)和一维近似 79

5.4 大信号瞬态计算 81

5-3 基于先前解之上的试探性势 81

5.5 p-n-p晶体管的程序转换 82

5-4 四种不同的一维模型间的相互关系 82

5.6 计算用的输入数据 84

5-5 晶体管的掺杂函数 86

5-1 图5-5中所示晶体管的分割点方案 87

5.7 计算结果的输出数据表 88

5-2 (VBE,VBC)=(0.8,-1)V情形下计算的结果 90

5.8 计算结果:器件内部的现象 101

5-6 VBC=-1 V时的载流子分布 102

5-7 VBC=-1 V时的电场分布,(a)发射区、(b)基区、(C)集电区、 104

5-8 VBC=-10 V时的载流子分布 106

5-9 VBC=-10 V时的电场分布,(a)基区(b)集电区 107

5-10 VBE=-1 V时的载流子分布 108

5-11 BE=-1 V时的电场分布 109

5.9 计算结果:端特性 110

5-12 正向和反向输入IV特性 110

5-13 正向和反向共发射极电流放大系数 111

5-14 输出IV特性 112

5.10 晶体管的大信号等效电路 113

5-15 电容~电压特性 114

5-16 晶体管的等效电路 115

6.1 基本考虑 117

第六章 晶闸管 117

6-1 基本的晶闸管结构(a)和IV特性(b) 118

6.2 按照电压控制型模型进行晶闸管计算 119

6-1 考虑中的晶闸管的分割点方案 120

6-2 晶闸管(a)和假定的二极管(b)的概略的掺杂分布 122

6.3 计算结果 122

6-3 载流子分布 123

6-4 电场分布 124

6-5 I—V特性 125

6.4 二极管/晶闸管模型化中电流控制型公式 127

6-6 电流控制型公式的边界位置 132

6.5 矢量模数限制法 133

6.6 计算结果 135

6-2 晶闸管的分割点方案 136

6-7 均匀寿命情形的IV特性 137

6-8 类似突变寿命分布的IV特性 137

6-9 维持电流与寿命关系的特性(A)均匀的T,(B)类似突变的T 138

6-10 类似突变的寿命分布 139

第七章 二维模型 141

7.1 基本公式 141

7-1 二维分析的网格点和边界条件 142

7.2 边界条件 145

7.3 牛顿方法和方程的线性化 147

7.4 边界条件的线性化 150

7.5 牛顿-SLOR法 152

7.6 几何结构、掺杂函数和网格点方案 153

7-2 晶体管的全部网格点方案 154

7-1 晶体管尺寸的数据 154

7-2 x和y方向网格点的间距 155

7-3 晶体管的掺杂函数 155

7.7 SLOR单元和线性方程的确定 156

7.8 开始进行牛顿迭代的试探性值 158

7-4 用于二维分析的试探性势 159

7.9 关于计算程序的几点注释 160

7-5 牛顿-SLOR方法的流程图 162

7.10 晶体管分析的实际计算时间 164

7-3 包括松弛参数值在内的工作条件一览表 165

7.11 快速求解法 166

7.12 检验计算结果的方法 166

7-4 (VBE,VBC)=(0.8-5)V条件下的计算结果 168

7.13 计算结果 172

7-5 端电流随牛顿-SLOR迭代次数增加的变化 172

7-6 对(VBE,VBC)=(0.6,-5)V条件计算得到的结果:载流子分布(a),发射区基区内的势分布(b),和集电区内的势分布(c) 175

7-7 对(VBE,VBC)=(0.8,-5)V条件计算得到的结果:载流子分布(a),发射区-基区内的势分布(b),和集电区内的势分布(c) 178

7-8 对(VBE,VBC)=(0.98,-5)V条件计算得到的结果:载流子分布(a),发射区-基区内的势分布( b),和集电区内的势分布(c) 181

7-9 对(VBE,VBC)=(2.3,-5)V条件计算得到的结果:载流子分布(a),发射区-基区内的势分布(b),和集电区内的势分布(c) 184

7-10 各电极上的电流分布:发射极(a),基极(b),和集电极(c) 187

7-11 IE~VBE特性 188

7-12 基区丙φPB的侧向分布 189

7-13 IB~VBE特性 190

7-14 hFE~Ic特性 191

8.1 近似形式的泊松方程 193

第八章 反向偏置p-n结的二维场分析 193

8-1 负倾斜(a)和正倾斜(b)的基本结构 194

8.2 边界条件 195

8-2 反向偏置p-n结的势分布 196

8.3 方程的线性化和牛顿迭代 197

8.4 有限元公式 198

8-3 用于有限元法的三角形元 200

8.5 线性矩阵-矢量方程组的解:Choleski-波前法 202

8-4 矩形分成三角形元 204

8-5 对应于图8-4的矩阵(a)和非零元素表(b) 204

8-1 Choleski-波前法计算过程中部分和的数据 206

8.6 计算结果 207

8-6 θ=20.56度负倾斜情形的电场分布 209

8-7 θ=59.04度负倾斜情形的电场分布 210

8-8 θ=45度正倾斜情形的电场分布 211

8-9 最大电场相对倾斜角的特性 211

第九章 混合二维模型 213

9.1 晶闸管模型的基本公式 213

9-1 具有外部电路的晶闸管芯片 215

9.2 非线性电路元件和线性化形式之间的函数关系 216

9-2 晶闸管五个分段的等效电路 216

9.3 节点方程的线性化 219

9-3 五段模型的矩阵-矢量方程 222

9.4 依据一维晶体管/晶闸管分析决定电路元件方程 226

9-4 发射区 基区内一维的势分布 227

9-1 JE~VBE和VBE特性的数据 228

9-5 n p n晶体管正常有源工作条件下?和VBE特性 229

9-6 p n p晶体管正常有源工作条件下?和VEB特性 230

9-7 晶闸管一维的势分布 231

9-2 J~V和Vn-基区的数据 232

9-8 具有模拟曲线的J~V特性 233

9-9 反向有源工作的n p n和p n p晶体管的J~V特性 234

9-10 正向有源工作的n p n晶体管的电流放大系数 235

9-11 反向有源工作的n p n晶体管的电流放大系数 236

9-13 反向有源工作的p n p晶体管的电流放大系数 237

9-12 正向有源工作的p n p晶体管的电流放大系数 237

9-14 n p n晶体管发射极电容~V BE特性 239

9-15 p n p晶体管发射极电容~V EB特性 240

9.5 计算结果 241

9-16 晶闸管芯片分割成五段 242

9-17 栅极电压波形 242

9-3 瞬态计算中选取的时间步长 243

9-4 模型随段数变化一览表 244

9-18 总的阳极电流和各段阳极电流的瞬态波形 244

9-19 以段数作参数画出的阳极电流波形 245

9-21 等离子扩展速度与阳极电流特性的关系 246

9-20 最大电流密度与第一段宽度的关系 246

附录A 与电流方程有关的矩阵非奇异性问题 248

附录B 矩阵和矢量元素表 251

附录C 偏导数 254

附录D 解三角块矩阵方程的递归法 259

附录E 用于电流控制型矩阵 矢量元素表的公式 261

附录F 解电流控制型矩阵 矢量方程的递归法 263

附录G 二维问题中的矩阵和矢量元素表 266

附录H SOR、SBOR和SLOR法 271

相关图书
作者其它书籍
返回顶部