金刚石膜的生长及其在光电子技术的研究PDF电子书下载

第一章　前言 1

第二章　金刚石薄膜生长和应用研究概述 6

2.1　人工合成金刚石的历史 6

2.2　化学气相沉积（CVD）金刚石膜 8

2.3　金刚石薄膜质量的影响因素 14

2.4　金刚石薄膜应用研究进展 15

第三章　金刚石膜的选择性定向生长研究 26

3.1　引言 26

3.2　实验过程 28

3.3　硅衬底上选择性金刚石膜的表面形貌表征 32

3.4　金刚石膜的拉曼光谱表征 33

3.5　金刚石膜X射线衍射（XRD）表征 35

3.6　偏压对金刚石薄膜选择性成核和生长的影响 37

3.7　衬底温度对金刚石薄膜选择性沉积的影响 42

3.8　A12O3衬底上金刚石膜的［100］织构生长 43

3.9　小结 49

第四章　金刚石膜X射线探测器的应用研究 51

4.1 引言 51

4.2　实验过程 64

4.3　探测器用金刚石膜的形貌与结构 66

4.4　器件的暗电流一电压特性 70

4.5　器件在X射线下的响应特性 74

4.6　器件的电流一温度特性 76

4.7　小结 77

第五章　金刚石膜作为多孔硅钝化膜的应用研究 79

5.1 引言 79

5.2　实验过程 82

5.3　金刚石膜／多孔硅复合材料 84

5.4　（掺氮）类金刚石膜／多孔硅复合材料 95

5.5　小结 101

第六章　金刚石膜的生长及应用研究总结 103

6.1　论文总结 103

6.2　应用展望 105

参考文献 107

致谢 119